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去光阻机

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苏州等离子去光阻机PA01/PA03B

产品功能

快速去除晶圆上之残留光阻,达到晶圆表面洁净,蚀刻率同业更高


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详情介绍

产品特色

.处理均匀性佳

.离子能量低、不损伤基板

.没有电极及基板的污染

.高密度等离子源

   *等离子效率高、清洁效率高

   *可控制低的离子能量

   *结合化学反应性及物理撞击性

.处理速度快、清洁效率高、可靠度高

.操作范围广

.可使用多种制程气体

.全自动且容易操作

.设备稳定高,容易维护

.可依客户需求作更改


可应用范围

.残余光阻去除

.PSS 来料清洁制程


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