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PECVD系统

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等离子辅助化学气相沉积系统
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详情介绍

产品特色

.大面积均匀性

.高镀膜速率

.低温真空镀膜

.可通入多组气体

.易操作及易维护

.可以客户做修改

.可搭配制等离子光谱分析仪做制程等离子监控及控制


可应用范围

.半导体产业

.太阳能产业

.LED产业

.光电产业

.镀膜制程

.学术研究


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