摘要
产品型号:PA01/PA03B 快速去除晶圆上之残留光阻,达到晶圆表面洁净,蚀刻率同业较高
产品介绍
等离子去光阻机
.处理均匀性佳
.离子能量低、不损伤基板
.没有电极及基板的污染
.专利设计之特殊等离子电极
.高密度等离子源
※ 等离子效率高、清洁效率高
※ 可控制低的离子能量
※ 结合化学反应性及物理撞击性
.处理速度快、清洁效率高、可靠度高
.操作范围广
.可使用多种制程气体
.全自动且容易操作
.设备稳定高,容易维护
.可依客户需求作更改
应用行业:
.残余光阻去除
.蓝膜残胶去除
.PSS 来料清洁制程
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