摘要
产品型号：PA01/PA03B 快速去除晶圆上之残留光阻，达到晶圆表面洁净，蚀刻率同业较高
产品介绍
等离子去光阻机
．处理均匀性佳
．离子能量低、不损伤基板
．没有电极及基板的污染
．专利设计之特殊等离子电极
．高密度等离子源
※ 等离子效率高、清洁效率高
※ 可控制低的离子能量
※ 结合化学反应性及物理撞击性
．处理速度快、清洁效率高、可靠度高
．操作范围广
．可使用多种制程气体
．全自动且容易操作
．设备稳定高，容易维护
．可依客户需求作更改
应用行业：
．残余光阻去除
．蓝膜残胶去除
．ＰＳＳ 来料清洁制程
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