有关馗鼎等离子清洗设备的清洗原理

2018-07-16  来自: 苏州源永动电子有限公司 浏览次数:128

  有关馗鼎等离子清洗设备的清洗原理

  馗鼎等离子清洗设备的原理是在真空状态下,利用射频辐射使得氧、氩、氮、四氟化碳等气体生成具有高反应活性的离子与器件等反应形成挥发性化合物,然后由真空系统将这些挥发性物质清除出去。

  现在我们的馗鼎等离子清洗设备主要应用于刻蚀硅片边沿的硅鳞层,扩散过程中,不但硅片的表面扩散上了磷,硅片边缘也扩散上了磷,这会导致硅片正反两极通过边缘导通短路。

  所以必须将硅片边缘这层被扩散上的硅磷去掉,大概去除1-3um。硅片在刻蚀机内水平旋转,通入的反应气体为四氟化碳、氧气和氮气。

  馗鼎等离子清洗设备的原理是在放电状态下反应气体四氟化碳、氧气和硅片边缘的硅发生反应,反应形成粉末和气态物质后随气流一起被抽走等。

关键词: 馗鼎等离子清洗设备           

苏州源永动电子有限公司是专业研发生产等离子清洗机、处理机及飞达产品的科技企业,生产的等离子清洗机、处理机可以完成等离子表面清洗、表面刻蚀、表面活化工艺,设备销往江浙沪一带,欢迎拨打热线:13739174051。

CopyRight © 版权所有: 苏州源永动电子有限公司 技术支持:荣邦网络 网站地图 XML

本站关键字: 电芯等离子清洁设备 超低温等离子清洗机 馗鼎等离子清洗设备 松下贴标feeder 松下cm电子飞达 松下NPM电子飞达 等离子清洁设备 等离子清洁机 松下电子飞达


扫一扫访问移动端